삼성전자, 평택 2라인 D램 생산 시작… 파운드리 낸드 투자도 예정대로

3세대 10나노급 LPDDR5 모바일 D램 생산 삼성전자 반도체 공장 평택 라인 삼성전자가 평택 2라인 반도체 공장 가동을 시작한다고 30일 밝혔다. 첫 생산 품목은 극자외선(EUV) 공정을 적용한 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램이다. 평택 2라인은 D램과 낸드플래시, 파운드리 생산이 함께 이뤄지는 복합 라인으로 꾸며진다. 삼성전자는 지난 5월 평택 2라인에 EUV 파운드리 생산 라인을 착공했다. 6월에는 3D 낸드플래시 생산 라인도 착공했다. 두…