삼성전자, 세계 최초 3나노 미세공정 개발…’시스템 글로벌 1위’ 눈앞

이재용 삼성전자 부회장이 2일 경기도 화성사업장 반도체연구소를 방문해 임직원들과 인사를 나누고 있다. 사진=삼성전자 제공 삼성전자가 업계 최초로 3nm(나노미터) 초미세 반도체 공정 기술 개발에 성공했다. 특히 삼성전자는 경쟁 업체 대만 TSMC보다 먼저 3나노 공정 개발에 성공하면서 2030년 시스템반도체 세계 1위를 달성하겠다는 목표에 한 걸음 더 가까워지게 됐다. 2일 삼성전자에 따르면 이재용 부회장은 이날 화성사업장 내 반도체연구소를…