삼성전자-TSMC, 3나노 공정 경쟁 심화

  [스페셜경제=최문정 인턴기자]삼성전자와 대만의 TSMC가 미세공정 경쟁에 불이 붙었다. 차세대 반도체 등에 활용될 3나노 미터 크기의 경쟁에서 TSMC가 먼저 생산라인을 구축했다. 삼성전자도 3나노 미터 공정의 승기를 잡기 위해 박차를 가하고 있다. 9일 대만 언론 디지타임즈는 “TSMC가 3나노 미터 공정 제작라인을 설치했다”고 보도했다. TSMC는 3나노 공정 개발을 완료하고, 내년부터 시험 생산에 들어갈 것으로 보인다. 또한 오는…