삼성전자, 반도체 ‘집적도’ 높일 신소재 발견…”전기적 간섭 문제 해결”

[서울=뉴스핌] 심지혜 기자 = 삼성전자가 기존 공정에서도 더 작고 빠른 반도체를 만들 수 있는 신소재를 발견, ‘미래 반도체’에 한 걸음 더 다가가게 됐다. 반도체 집적화에 따라 발생하는 ‘전기적 간섭’ 문제를 해결할 돌파구를 찾은 것이다.  삼성전자는 종합기술원이 최근 울산과학기술원(UNIST)과 함께 반도체 신소재로 ‘비정질 질화붕소(a-BN)’를 발견했다고 6일 밝혔다.  비정질 질화붕소는 영국 맨체스터 대학교 연구팀이 ‘꿈의 신소재’로 불리던 그래핀(Graphene)을…

삼성전자, 반도체 ‘집적도’ 높일 신소재 발견…”전기적 간섭 문제 해결”

UNIST와 공동으로 개발…네이쳐지에도 게재 메모리·시스템 반도체 기존 공정에서도 적용 가능 [서울=뉴스핌] 심지혜 기자 = 삼성전자가 기존 공정에서도 더 작고 빠른 반도체를 만들 수 있는 신소재를 발견, ‘미래 반도체’에 한 걸음 더 다가가게 됐다. 반도체 집적화에 따라 발생하는 ‘전기적 간섭’ 문제를 해결할 돌파구를 찾은 것이다.  삼성전자는 종합기술원이 최근 울산과학기술원(UNIST)과 함께 반도체 신소재로 ‘비정질 질화붕소(a-BN)’를 발견했다고 6일 밝혔다. …

삼성전자, 반도체 ‘집적도’ 높일 신소재 발견…”전기적 간섭 문제 해결”

[서울=뉴스핌] 심지혜 기자 = 삼성전자가 기존 공정에서도 더 작고 빠른 반도체를 만들 수 있는 신소재를 발견, ‘미래 반도체’에 한 걸음 더 다가가게 됐다. 반도체 집적화에 따라 발생하는 ‘전기적 간섭’ 문제를 해결할 돌파구를 찾은 것이다.  삼성전자는 종합기술원이 최근 울산과학기술원(UNIST)과 함께 반도체 신소재로 ‘비정질 질화붕소(a-BN)’를 발견했다고 6일 밝혔다.  비정질 질화붕소는 영국 맨체스터 대학교 연구팀이 ‘꿈의 신소재’로 불리던 그래핀(Graphene)을…